■高純度な酸クロライドの調整技術
■高純度な電子材料の調整技術
・液体及び結晶物に含まれる金属イオンを20ppbオーダーまで除去できる技術
■薄膜蒸留装置による精製技術
■鈴木カップリング反応/有機EL、液晶及び、医薬中間体の反応へ応用する技術
■高純度ArF対応レジスト材料の高収率、高純度な製造技術
●合成設備 | 100L以下反応釜(テフロン) | 数基 |
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180L反応釜(GL) | 1基 | |
800L反応釜(GL) | 1基 | |
20Lエバポレーター | 3基 | |
3Lエバポレーター | 3基 | |
薄膜蒸留器(20~30L/D) | 1基 | |
薄膜蒸留検討器(500mL/D) | 1基 | |
●分析機器 | GC 2基、 ICP-MS 1基、 IR 1基、 HPLC 2基、 分取用HPLC 1基 |